Núcleo Regional de São José dos Campos iniciará núcleo de estudos sobre o novo Código de Processo Penal
Magistrados podem se inscrever até 9 de março.
A EPM, por meio do Núcleo Regional de São José dos Campos, realizará entre os dias 12 de março e 28 de novembro de 2025 o Núcleo de Estudos em Projeto de Lei do Novo Código de Processo Penal. O objetivo é debater o PL 8.045/2010 e desenvolver produções científicas voltadas para a atuação dos juízes. A coordenação do núcleo é do juiz Brenno Gimenes Cesca.
Os encontros vão ocorrer no formato on-line (Teams), às sextas-feiras, das 9 às 12 horas. São oferecidas 50 vagas gratuitas aos magistrados do Tribunal de Justiça de São Paulo. As inscrições estão abertas até 9 de março. Todos os candidatos que se inscreverem no período determinado ou até o preenchimento das vagas serão matriculados automaticamente, respeitando a ordem cronológica das inscrições (verificar o recebimento do e-mail de confirmação de matrícula). Mais informações no edital.
Programação:
12/3 – Processo Penal e sua reforma – a estrutura atual do CPP e sua atualização hermenêutica
Adv. Eugênio Pacelli de Oliveira – relator geral da comissão de juristas responsável pela elaboração do projeto do novo CPP
28/3 – Sistema acusatório no Projeto de Lei do Código de Processo Penal
Des. Marcos Alexandre Coelho Zilli
25/4 – Investigação preliminar e juiz das garantias
Juiz Gláucio Roberto Brittes de Araujo
30/5 – Da recomposição social: dos direitos da vítima e da Justiça Restaurativa penal
Juiz Eduardo Rezende Melo
27/6 – Teoria Geral da Prova, meios de prova e de obtenção de prova
Promotor de Justiça Ricardo José Gasques de Almeida Silvares
29/8 – Procedimento do júri: principais mudanças
Des. Guilherme de Souza Nucci
26/9 – Prisão preventiva e cautelares pessoais diversas da prisão
Procurador Regional da República Douglas Fischer
24/10 – Cooperação jurídica internacional
Promotor de Justiça Fábio Ramazzini Bechara
28/11 – Sistema recursal e ações autônomas de impugnação
Promotor de Justiça Rogério Sanches Cunha
RL (texto) / LS (arte)