Direitos de acionistas em litígios empresariais serão debatidos em curso da EPM
Inscrições estão abertas até 20 de maio.
A EPM promoverá no dia 23 de maio o curso Desenvolvimento econômico e litígios empresariais de investidores, sob a coordenação das juízas Helena Campos Refosco e Maria Rita Rebello Pinho Dias. O evento será realizado no auditório do 3° andar da Escola e de maneira on-line (Teams), das 8h30 às 12h30. O objetivo é discutir os direitos de acionistas em litígios empresariais de natureza coletiva.
São oferecidas 65 vagas presenciais e 700 vagas, abertas a todos os interessados. Serão emitidos certificados àqueles que registrarem frequência. Para isso, o aluno da modalidade a distância deverá acessar integralmente a aula, ao vivo ou em até cinco dias corridos após a disponibilização da gravação na Central de vídeos.
O valor do curso é R$ 150,00, em parcela única, no ato da matrícula. Para alunos estrangeiros, o valor é R$ 240,00, em razão das tarifas para transações interbancárias.
As inscrições e matrículas podem ser feitas até o dia 20 de maio. Magistrados do TJSP e funcionários do TJSP que se inscreverem com usuário e senha de seu e-mail institucional serão matriculados automaticamente (verificar o recebimento do e-mail de confirmação de matrícula). Os demais inscritos deverão efetuar a matrícula no período indicado (confira a relação de categorias de desconto, documentos para matrícula e outras informações no edital).
Programa:
8h30 – Abertura
Des. Eduardo Azuma Nishi
9h às 10h30 – Efetivação dos direitos dos acionistas: perspectiva econômica e comparada
Prof. Otávio Yazbek
Profa. Mariana Pargendler
Juíza Renata Mota Maciel
Juiz Luís Felipe Ferrari Bedendi (presidente)
10h30 às 12h – Plataformas tecnológicas e ações coletivas: o cumprimento de sentença e acesso à Justiça
Prof. Carlos Portugal Gouvêa
Profa. Marina Coppola
Juiz Eduardo Palma Pellegrinelli (presidente)
12h às 12h30 – Encerramento
Juíza Helena Campos Refosco
Juíza Maria Rita Rebello Pinho Dias
Des. Carlos Alberto de Salles (presidente)
MA (texto) / LS (arte)